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IC mask 规格

Item Remark E D C B A
Design Node (μm) 0.35 0.5 0.8 1 >1
  Tolerance (Each point) (μm) ±0.05 ±0.08 ±0.1 ±0.15 ±0.25
Uniformity (Max-Min) (μm) <0.08 0.12 0.15 0.2 0.4
Mean to Target (μm) ±0.04 ±0.08 ±0.1 ±0.15 ±0.25
Regis. Total Pitch (μm) ±0.07 ±0.08 ±0.1 ±0.15 ±0.25
Overlay (μm) ±0.07 ±0.08 ±0.1 ±0.15 ±0.25
Defect size (μm) ﹤0.35 ﹤0.5 ﹤0.75 ﹤1.0 ﹤1.5
Particle Pellicle film (μm) >20 0 0 0 0 0
10~20 ≤5 ≤5 ≤5 ≤10 ≤10
<10 N/A N/A N/A N/A N/A
On Cr inside pellicle (μm) ≥2.0 0 0 0 0 0
1.0~2.0 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
<1.0 / / / / /
On Clear inside pellicle  (μm) Defect Size 0.35 ﹤0.5 ﹤0.75 ﹤1.0 ﹤1.5
Edge Size 0.35 ﹤0.5 ﹤0.75 ﹤1.0 ﹤1.5
glass side (μm) ≥20 0 0 0 0 0
10~20 5 5 5 5 5
Blank mask Flatness (μm) <1 <1 <2 <2 <2
Address Unit (Min Design) (nm) 1 1 1 1 1

 

清溢公司目前的工艺能力能满足D级光罩规格要求