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显示发展大潮中,清溢光电如何踏浪而歌?

显示发展大潮中,清溢光电如何踏浪而歌?

  • 分类:公司新闻
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2017-04-28 16:14
  • 访问量:

显示发展大潮中,清溢光电如何踏浪而歌?

  • 分类:公司新闻
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  • 发布时间:2017-04-28 16:14
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2016年11月19日,由深圳清溢光电股份有限公司(以下简称“清溢光电”)主办的“2016年度掩膜版发展趋势研判暨专家研讨会”在深圳大梅沙喜来登酒店隆重举行,就面板行业对掩膜版尺寸、精度、产能等需求的变化和趋势等展开研讨。本次会议邀请到了重量级的业内专家和下游企业代表,清溢光电行政总裁朱雪华女士、财务总裁吴克强先生带领公司核心管理团队参加本次研讨会。

会议由行业资深专家张百哲老师主持,清溢光电首先提出了掩膜版行业关注的三个问题:行业未来发展前景、掩膜版需求总量决定因素和技术路线定位。

张百哲老师认为中国显示产业发展经过了三个阶段:第一阶段是2003-2009年的非议阶段,那时国内显示产业刚起步,需要树立信心、靠自己发展,其中合肥G6 是个重大突破;2010-2015年是产业高速发展阶段,总体发展方针是在金融危机时逆势而上,产能超过台湾;第三阶段就是2016年开始,这一阶段重点不是产能扩张,而在于做强,总体投资应比较慎重。

中国光学光电子行业协会液晶分会梁新清秘书长介绍了中国显示行业总体形势,认为现在是国内显示产业发展更为关键的时期,梳理行业情况,不但是解决清溢的问题,也有助于帮助业内人士解决问题。

与会专家及各下游企业代表均认为掩膜版需求总量决定因素不能只看面板产线的数量,其实最重要的应该是开膜版的量;掩膜版通常有逆周期的特点。目前面板新建产线数量众多,掩膜版国内供需矛盾比较突出,这为清溢光电的后续发展提供了良好的契机。

行业资深专家孙政民老师和朱昌昌老师分别对量子点显示技术和印刷显示技术对掩膜版的需求量的影响进行了分析,均认为10年内使用掩膜版依然是主流,技术替代风险很低,其发展空间依然广阔。关于清溢光电技术路线未来定位,业内专家和下游企业代表都认为后续高精度掩膜版产品是大势所趋,希望清溢公司能尽快扩大产能,持续不断地改进并丰富产品品种,对后续的技术规划保持一定的技术兼容性和前瞻性。最后,业内专家和下游企业代表对清溢光电规划投资定位配套8.5代线还是配套11代线,给出了专业建议。整个研讨会气氛热烈,大家畅所欲言,积极为清溢的发展献言建策。

本次会议上业内专家及下游企业代表充分肯定了清溢光电在支持国内面板行业的发展,打破了国外的垄断,实现TFT-Mask国产化等方面所作出的重要贡献,希望清溢能持续配合国内TFT面板企业扩产态势,乘势而上,加快发展的步伐。清溢光电行政总裁朱雪华女士表示,本次会议受益匪浅,坚定了在掩膜版行业做大做强的信心,后续会按业内专家及下游企业代表的建议加快新产线投资评估,为中国显示产业发展做出应有的贡献。

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