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DIC EXPO 2025:清溢光电闪耀国际显示技术舞台

2025-08-15

8 月 7 日至 9 日,由中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)主办的 DIC EXPO 2025 国际(上海)显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心举行。这场汇聚全球 40 余个国家及地区专业人士的盛会,为行业搭建了技术展示与合作交流的重要平台。 作为国内掩模版领域的领军企业,清溢光电携最新自主研发成果亮相,全方位展示了在高端掩膜版技术及显示领域的创新能力,为半导体显示产业升级注入新活力。​ 此次主打展品 G6 AMOLED 超高精度光学掩膜版备受关注:980×1150mm 尺寸,最小线宽仅 1.2μm(约为头发丝直径的七十分之一),位置精度 0.2μm,缺陷精度 0.5μm。该产品量产打破国外垄断,以 “提性能、优工艺、降成本” 为亮点凸显技术领先性与本土化服务优势。​

合肥清溢光电PSM产品开发项目启动大会顺利召开

2025-06-20

2025年6月19日下午,合肥清溢光电有限公司PSM产品(相移掩膜版)开发项目启动大会顺利召开。会议介绍了项目市场应用情况并讨论了实施方案计划,市场部、采购部、资材部、新产品整合与开发部、品管部以及制造厂的相关人员出席了本次会议。