深圳清溢微首次亮相九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会CSE 2025

2025-05-08 14:52

2025年4月23日，第三届九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会（CSE 2025）在武汉光谷科技会展中心盛大开幕。作为国内化合物半导体领域规模最大、规格最高的标杆性展会，本届博览会汇聚了全球近300家企业及十余家顶尖科研机构参展，产业链覆盖了材料、设备、EDA、工具制造到终端应用全环节，展览规模达2万平方米，参会人数突破2万人次。深圳清溢微电子有限公司（以下简称“清溢微”）作为中国独立第三方半导体掩膜专家受邀参会，清溢微携其高端掩膜版技术及创新成果首次亮相，成为展会上半导体材料领域的焦点企业之一。

图一：清溢微参展团队

本届博览会以“智慧光谷激活未来”为主题”，提出“科技、产业、人文，于智慧山顶相逢”的概念，强调技术突破、产业落地与文化赋能的协同发展。清溢微在展会上展示了其在化合物半导体制造中的关键掩膜版技术赋能化合物半导体制造能力，重点展出了6英寸130nm Binary/PSM mask，9英寸和14英寸掩膜版产品，以上产品广泛应用于FAB/IDM/先进封装线等客户领域。清溢微展示的掩膜版产品在硅基与化合物半导体材料（如碳化硅、氮化镓）中起到了关键图形转移作用，产品要求零缺陷，这推动了化合物半导体芯片性能与功能密度的提升。

图二：客户来展台咨询交流

在为期3天的会展中，清溢微的展台吸引了九峰山实验室、国家第三代半导体技术创新中心、平湖实验室等顶尖科研机构和长江存储等产业链头部企业的关注。化合物半导体上下游企业家，研究者，行业专业人士纷纷驻足咨询交流，清溢微副总经理陶飞带领的市场和技术团队，积极热情、专业地解答每一位来访者的各类问题，展台现场讨论气氛热烈，为此次展会增添了一道亮丽的风景线。

图三：客户来展台现场洽谈合作

图四：高校师生参观展台

化合物半导体的快速发展对掩膜版精度提出了更高要求也带来更多的市场机会。清溢微目前的掩膜版产品主要在第二代、第三代化合物半导体中使用，公司同步在跟踪第四代化合物半导体的技术发展，同时将持续加大研发投入，并与九峰山实验室等机构合作，计划在未来三年内，依托深圳和佛山两个基地的产能扩张和技术升级，扩大掩膜版在化合物半导体（如砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓、氧化镓等）中的应用。公司位于佛山的掩膜版生产基地项目已进入建设关键阶段，预计今年下半年将投产运行，产能可覆盖8寸及12寸晶圆厂高节点的掩膜版开模需求。清溢微未来将进一步提升半导体行业国产替代能力，支持国内半导体市场的快速增长和发展。

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