清溢微2026 SEMICON China圆满收官

2026-04-14 15:55

为期三天的2026 SEMICON China于3月27日在上海新国际博览中心落下帷幕。国内领先的半导体光掩膜制造商深圳清溢微电子有限公司（以下简称“清溢微”）携多款高端光掩膜产品及解决方案入驻本届盛会，凭借其在佛山新工厂高节点掩膜版的技术突破与稳健的量产能力，吸引了半导体产业链上下游众多客户的高度关注，展会期间达成的交流合作成果丰硕。

图：清溢微参展团队

本届SEMICON China上，清溢微展台人头攒动，交流氛围异常热烈。清溢微展出的针对高性能计算、车规级芯片及第三代半导体等领域的高端光掩膜解决方案，成为现场关注的焦点。通过实物展示、Roadmap看板及工程师现场讲解，清溢微全方位展现了其在40nm及以上制程的光掩膜制造领域的最新量产成果。

图：到展台咨询的各界朋友

当前半导体工艺制程持续微缩、本土化供应链需求日益迫切。光掩膜是半导体制造的核心材料，作为芯片设计与晶圆制造之间的关键桥梁，其精度与良率直接决定着芯片的性能与量产效率，光掩膜的自主可控对于本土产业链安全至关重要。清溢微作为产业链上游的关键一环，正加速推进其高端光掩膜技术迭代升级，为国产替代本土化进程按下加速键。公司总经理及副总亲临展会现场，与多家国内头部晶圆厂、IC设计公司及封装企业进行了深入交流。SEMICON是全球半导体行业的风向标，本届SEMICON让我们深刻感受到，业界对于高品质、高可靠性的本土光掩膜需求极为迫切。清溢微凭借在光掩膜领域多年的技术积累，已成功构建起覆盖 250nm，180nm，130nm，110/90nm，55/40 nm 的完整技术图谱。我们不仅关注技术的突破，更致力于通过稳定的产能交付、卓越的品控能力和敏捷的客户服务，成为支撑中国半导体产业高质量发展的坚实后盾。

图：到展台咨询的各界朋友

通过此次参展，清溢微不仅展示了其在高端光掩膜国产化进程中的阶段性成果，更明确了未来的发展方向。清溢微表示，将继续加大研发投入，加速推进40nm/28nm节点光掩膜技术的研发验证与量产能力建设，进一步提升在车规级芯片、高端逻辑芯片及存储器等关键应用领域的市场占有率。我们希望通过持续的技术创新，不仅解决“有无”问题，更在品质、服务和稳定性上达到国际一流水平，成为客户值得信赖的长期伙伴。